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制程反应室除尘装置及具有除尘功能的制程反应室

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（19）中华人民共和国国家知识产权局
（12）发明专利申请

（21）申请号CN200410059425.6（22）申请日2004.06.18
（71）申请人友达光电股份有限公司

地址台湾省新竹市科学工业园区

（10）申请公布号CN1595242A（43）申请公布日2005.03.16
（72）发明人林昆民
（74）专利代理机构北京三友知识产权代理有限公司

代理人刘领弟
（51）Int.CI

G02F1/133;G03F7/20;
权利要求说明书说明书幅图
（54）发明名称

制程反应室除尘装置及具有除尘功能的制程反应室
（57）摘要

一种制程反应室除尘装置及具有除尘功能
的制程反应室。为提供一种能自动化对加热板表面进行清洁、提高加热板表面的清洁效率的显示装置部件制造设备附属装置，提出本发明，制程反应室除尘装置包括设于制程反应室加热板上方的集尘舱及提供吸力来源的负压管路；集尘舱设置于加热板上方，其具有至少一集尘口一个排气
口；负压管路与集尘舱排气口相连接；具有除尘功能的制程反应室包括可加热空气以进行制程中所需反应的加热板设置于加热板上方的集尘舱及负压管路；集尘舱具有至少一集尘口及一排气口；负压管路与集尘舱的排气口连接。
法律状态
法律状态公告日
2005-03-162005-05-182007-11-07
法律状态信息
公开
实质审查的生效授权
法律状态
公开
实质审查的生效授权

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说明书
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